¹ÝµµÃ¼±â¼úÀåºñ±³À°¼¾ÅÍ
SETEC¼Ò°³
Àλ縻
¼³¸³¹è°æ&¼³¸³¿¬Çõ
ÁÖ°ü±â°ü
ã¾Æ¿À½Ã´Â±æ
±³À°¼Ò°³
Áýü±³À°°úÁ¤ ¾È³»
¿ø°Ý±³À°°úÁ¤ ¾È³»
¿¬°£±³À°ÀÏÁ¤
±³À°½Åû
±³À°½Åû¾È³»
Á¢¼ö±³À°¸ñ·Ï
À§Å¹°è¾à¼º¸±â
½Ã¼³¹×Àåºñ¾È³»
Ŭ¸°·ë
°ÀÇ½Ç ¹× ¼÷¼Ò
Ä¿¹Â´ÏƼ
°øÁö»çÇ×
Q&A
ÀÚÁÖÇÏ´ÂÁú¹®
S
emiconductor
E
quipment
T
echnology
E
ducation
C
enter
¹ÝµµÃ¼Àåºñ±â¼ú±³À°¼¾ÅÍ
Ä¿¹Â´ÏƼ
COMMUNITY
°øÁö»çÇ×
Q&A
ÀÚÁÖÇÏ´Â Áú¹®
°øÁö»çÇ×
Total 276°Ç
5 ÆäÀÌÁö
°Ô½ÃÆÇ °Ë»ö
°øÁö»çÇ× ¸ñ·Ï
¹øÈ£
Á¦¸ñ
±Û¾´ÀÌ
Á¶È¸
³¯Â¥
216
2021³â 2¿ù Á¤±Ô±³À°ÀÏÁ¤ ¹× Á¢¼ö¾È³» (±âÃÊ)
SETEC
1952
01-14
215
4¿ù(1) Á¤±Ô±³À° ÀÏÁ¤ ¹× Á¢¼ö¾È³»(½Ç¹«¥± /Áø°ø)
SETEC
1957
02-21
214
2021³â 5¿ù(1) Á¤±Ô±³À°ÀÏÁ¤ ¹× Á¢¼ö¾È³» (±âÃÊ)
SETEC
1958
04-01
213
2022³â 8¿ù Á¤±Ô±³À°ÀÏÁ¤ ¹× Á¢¼ö¾È³»(Åë½Å,°øÁ¤)
SETEC
1960
07-15
212
2020³â 10¿ù Á¤±Ô±³À°ÀÏÁ¤ ¹× Á¢¼ö¾È³» (¿¡ÃÄ, ÁýÀûÈ, ±âÃÊ, ÆòÆÇ)
SETEC
1965
08-27
211
2020³â 11¿ù(2) Á¤±Ô±³À°ÀÏÁ¤ ¹× Á¢¼ö¾È³» (±âÃÊ, ½Ç¹«I)
SETEC
1968
10-12
210
*9¿ù(1)* Á¤±Ô±³À°°úÁ¤ ÀÏÁ¤ ¹× Á¢¼ö ¾È³»(ÇöóÁ/±âÃÊ)
SETEC
1970
07-25
209
4¿ù ±³À° Æó°¾È³»
SETEC
1974
04-01
208
4¿ù(1) Á¤±Ô±³À° ÀÏÁ¤ ¹× Á¢¼ö¾È³»(½Ç¹«¥±/±âÃÊ)
SETEC
1975
02-22
207
2020³â 6¿ù(2) Á¤±Ô±³À°ÀÏÁ¤ ¹× Á¢¼ö¾È³» (½Ç¹«I,PECVD)
SETEC
1982
05-07
206
9¿ù(1) Á¤±Ô±³À°°úÁ¤ Á¢¼ö±â°£ ¿¬Àå ¾È³»(ÇöóÁ)
SETEC
1994
08-18
205
11¿ù(2) Á¤±Ô±³À°ÀÏÁ¤ ¹× Á¢¼ö¾È³» (±âÃÊ/PECVD)
SETEC
1995
10-08
204
2020³â 9¿ù Á¤±Ô±³À°ÀÏÁ¤ ¹× Á¢¼ö¾È³» (Åë½Å, ±âÃÊ, Áø°ø)
SETEC
1996
08-10
203
10¿ù Á¤±Ô±³À°ÀÏÁ¤ ¹× Á¢¼ö¾È³» (Áø°ø/±âÃÊ/Etcher)
SETEC
1999
09-05
202
±¤º¹Àý ÀüÀÏ(8¿ù14ÀÏ) Àӽà °øÈÞÀÏ ¾Ë¸²
SETEC
2007
08-11
óÀ½
1
ÆäÀÌÁö
2
ÆäÀÌÁö
3
ÆäÀÌÁö
4
ÆäÀÌÁö
¿¸°
5
ÆäÀÌÁö
6
ÆäÀÌÁö
7
ÆäÀÌÁö
8
ÆäÀÌÁö
9
ÆäÀÌÁö
10
ÆäÀÌÁö
´ÙÀ½
¸Ç³¡
°Ë»ö
°Ë»ö´ë»ó
Á¦¸ñ
³»¿ë
Á¦¸ñ+³»¿ë
±Û¾´ÀÌ
±Û¾´ÀÌ(ÄÚ)
°Ë»ö¾î
Çʼö
°Ë»ö
´Ý±â