¹ÝµµÃ¼±â¼úÀåºñ±³À°¼¾ÅÍ
SETEC¼Ò°³
Àλ縻
¼³¸³¹è°æ&¼³¸³¿¬Çõ
ÁÖ°ü±â°ü
ã¾Æ¿À½Ã´Â±æ
±³À°¼Ò°³
Áýü±³À°°úÁ¤ ¾È³»
¿ø°Ý±³À°°úÁ¤ ¾È³»
¿¬°£±³À°ÀÏÁ¤
±³À°½Åû
±³À°½Åû¾È³»
Á¢¼ö±³À°¸ñ·Ï
À§Å¹°è¾à¼º¸±â
½Ã¼³¹×Àåºñ¾È³»
Ŭ¸°·ë
°ÀÇ½Ç ¹× ¼÷¼Ò
Ä¿¹Â´ÏƼ
°øÁö»çÇ×
Q&A
ÀÚÁÖÇÏ´ÂÁú¹®
S
emiconductor
E
quipment
T
echnology
E
ducation
C
enter
¹ÝµµÃ¼Àåºñ±â¼ú±³À°¼¾ÅÍ
Ä¿¹Â´ÏƼ
COMMUNITY
°øÁö»çÇ×
Q&A
ÀÚÁÖÇÏ´Â Áú¹®
°øÁö»çÇ×
Total 297°Ç
13 ÆäÀÌÁö
°Ô½ÃÆÇ °Ë»ö
°øÁö»çÇ× ¸ñ·Ï
¹øÈ£
Á¦¸ñ
±Û¾´ÀÌ
Á¶È¸
³¯Â¥
117
5¿ù(2) Á¤±Ô±³À°°úÁ¤ ÀÏÁ¤ ¹× Á¢¼ö ¾È³»(PECVD/ALD)
SETEC
4197
04-08
116
5¿ù Á¤±Ô±³À°ÀÏÁ¤ ¹× Á¢¼ö¾È³» (±âÃÊ/ÇöóÁ/ÆòÆÇ)
SETEC
4197
04-04
115
*9¿ù(2)* Á¤±Ô±³À°°úÁ¤ ÀÏÁ¤ ¹× Á¢¼ö ¾È³»(ÀåºñÁø°ø/Dry Etcher)
SETEC
4196
08-14
114
12¿ù Á¤±Ô±³À° ÀÏÁ¤ ¹× Á¢¼ö¾È³»(±âÃÊ/Åë½Å)
SETEC
4189
10-25
113
5¿ù 6ÀÏ(±Ý) ÈÞ¹« ¾È³»
SETEC
4186
05-04
112
SETEC 7¿ù Á¤±Ô±³À°°úÁ¤ ÀÏÁ¤ ¾È³»
SETEC
4173
05-18
111
*2¿ù*Á¤±Ô±³À°°úÁ¤ ÀÏÁ¤ ¹× Á¢¼ö ¾È³»(¼Ö¶ó¼¿/±âÃÊ)
SETEC
4160
01-09
110
11¿ù(1) Á¤±Ô±³À°ÀÏÁ¤ ¹× Á¢¼ö¾È³» (ÆòÆÇ/½Ç¹«¥°)
SETEC
4141
10-01
109
*11¿ù(1)*Á¤±Ô±³À°°úÁ¤ ÀÏÁ¤ ¹× Á¢¼ö ¾È³»(±âÃÊ/Áø°ø)
SETEC
4139
09-29
108
*6¿ù(2)* Á¤±Ô±³À°°úÁ¤ ÀÏÁ¤ ¹× Á¢¼ö ¾È³»(½Ç¹«¥°/ÆòÆÇ/¼Ö¶ó¼¿)
SETEC
4133
05-28
107
*ÀÏÁ¤º¯°æ* 2018 ¹ÝµµÃ¼±âÃʰúÁ¤ (7Â÷) ÀÏÁ¤ º¯°æ ¾È³» (º¯°æÀü-9¿ù, º¯°æÈÄ-10¿ù)
SETEC
4130
07-31
106
*10¿ù(1)* Á¤±Ô±³À°°úÁ¤ ÀÏÁ¤ ¹× Á¢¼ö ¾È³»(PECVD.ALD/±âÃÊ)
SETEC
4127
08-29
105
2020³â 8¿ù Á¤±Ô±³À°ÀÏÁ¤ ¹× Á¢¼ö¾È³» (±âÃÊ, ÇöóÁ)
SETEC
4118
07-17
104
*9¿ù(2)* Á¤±Ô±³À°°úÁ¤ ÀÏÁ¤ ¹× Á¢¼ö ¾È³»(Åë½Å/¼Ö¶ó¼¿)
SETEC
4088
08-08
103
*ÀÏÁ¤º¯°æ* 2015³â ¿¬°£±³À°ÀÏÁ¤ º¯°æ ¾È³»(2015.02.06 ±âÁØ)
SETEC
4086
02-06
óÀ½
ÀÌÀü
11
ÆäÀÌÁö
12
ÆäÀÌÁö
¿¸°
13
ÆäÀÌÁö
14
ÆäÀÌÁö
15
ÆäÀÌÁö
16
ÆäÀÌÁö
17
ÆäÀÌÁö
18
ÆäÀÌÁö
19
ÆäÀÌÁö
20
ÆäÀÌÁö
¸Ç³¡
°Ë»ö
°Ë»ö´ë»ó
Á¦¸ñ
³»¿ë
Á¦¸ñ+³»¿ë
±Û¾´ÀÌ
±Û¾´ÀÌ(ÄÚ)
°Ë»ö¾î
Çʼö
°Ë»ö
´Ý±â