¹ÝµµÃ¼±â¼úÀåºñ±³À°¼¾ÅÍ
S emiconductor   E quipment
T echnology   E ducation   C enter
¹ÝµµÃ¼Àåºñ±â¼ú±³À°¼¾ÅÍ
°øÁö»çÇ×
2016 Á¤±Ô±³À° ÀÏÁ¤ ¹× Á¢¼ö±â°£ ¾È³»

ÆäÀÌÁö Á¤º¸

profile_image
ÀÛ¼ºÀÚ SETEC
´ñ±Û 0°Ç Á¶È¸ 3,118ȸ ÀÛ¼ºÀÏ 15-12-07 13:47

º»¹®

¾È³çÇϼ¼¿ä. ¹ÝµµÃ¼Àåºñ±â¼ú±³À°¼¾ÅÍÀÔ´Ï´Ù.

¿Ã ÇÑ ÇØ¿¡µµ SETEC ±³À°°úÁ¤¿¡ ¸¹Àº °ü½ÉÀ» °¡Á®Áּż­ °¨»çµå¸®¸ç, 2016³â¿¡µµ ¸¹Àº °ü½É°ú Âü¿©¸¦ ºÎŹ µå¸³´Ï´Ù. 



1. ±³À° °úÁ¤ ¾È³»
 
 ¡Ø ÀϹݱâ¼ú°úÁ¤(4°³ °úÁ¤) : ¹ÝµµÃ¼±âÃÊ, ¹ÝµµÃ¼½Ç¹«I, ¹ÝµµÃ¼½Ç¹«II, ÆòÆǵð½ºÇ÷¹ÀÌ

 ¡Ø Àü¹®±â¼ú°úÁ¤(5°³ °úÁ¤) : ÇöóÁ±â¼ú, ÀåºñÁø°ø±â¼ú, ¹ÝµµÃ¼ÀåºñÅë½Å±â¼ú, Dry Etcher ±â¼ú, PECVD/ALD±â¼ú


2. ±³À° ½Åû ¾È³»

 ¡Ø ±³À° Á¢¼ö : ¿Â¶óÀÎ ¼±Âø¼ø Á¢¼ö(±³À° ½Ç½Ã 5ÁÖÀüºÎÅÍ)

 ¡Ø ±³À°´ë»óÀÚ : °í¿ëº¸Çè¿¡ °¡ÀԵǾî ÀÖÀ¸¸ç ¹ÝµµÃ¼°ü·Ã¾÷ü¿¡ ÀçÁ÷ÁßÀÎ ±Ù·ÎÀÚ


3. ȯ±Þ ¾È³»

 ¡Ø °í¿ë³ëµ¿ºÎ(»ç¾÷ÁÖ Á÷¾÷´É·Â°³¹ßÈÆ·Ã Áö¿ø»ç¾÷)¿¡ ÀÇÇØ ÀÎÁ¤ ¹ÞÀº ±³À°°úÁ¤À¸·Î ¾à 35%¿¡ ÇØ´çÇÏ´Â ¼ÒÁ¤ÀÇ Áö¿ø±ÝÀ» ȯ±Þ.
 
 ¡Ø ´ë»ó : ÇØ´ç »ç¾÷ÀåÀÇ °í¿ëº¸Çè¿¡ °¡ÀÔ µÈ ±Ù·ÎÀÚ·Î, 80% ÀÌ»ó Ãâ¼®ÇÏ¿© ¼ö·áÇÑ ÀÚ.
               
 ¡Ø Áö¿ø±Ý ½Åû : Çѱ¹»ê¾÷Àη°ø´Ü Áö¿ªº»ºÎ ¹× Áö»ç

÷ºÎÆÄÀÏ

´ñ±Û¸ñ·Ï

µî·ÏµÈ ´ñ±ÛÀÌ ¾ø½À´Ï´Ù.

Total 268°Ç 10 ÆäÀÌÁö
°øÁö»çÇ× ¸ñ·Ï
¹øÈ£ Á¦¸ñ ±Û¾´ÀÌ Á¶È¸ ³¯Â¥
133 SETEC 4063 12-09
132 SETEC 4266 12-01
131 SETEC 1935 11-01
130 SETEC 2004 10-28
129 SETEC 1849 10-14
128 SETEC 1755 09-30
127 SETEC 2009 09-09
126 SETEC 1951 09-02
125 SETEC 1929 08-19
124 SETEC 2028 08-18
123 SETEC 1575 08-18
122 SETEC 2185 08-08
121 SETEC 1797 07-15
120 SETEC 4553 07-15
119 SETEC 2113 05-24

°Ë»ö