¹ÝµµÃ¼±â¼úÀåºñ±³À°¼¾ÅÍ
S emiconductor   E quipment
T echnology   E ducation   C enter
¹ÝµµÃ¼Àåºñ±â¼ú±³À°¼¾ÅÍ
°øÁö»çÇ×
2016 Á¤±Ô±³À° ÀÏÁ¤ ¹× Á¢¼ö±â°£ ¾È³»

ÆäÀÌÁö Á¤º¸

profile_image
ÀÛ¼ºÀÚ SETEC
´ñ±Û 0°Ç Á¶È¸ 3,114ȸ ÀÛ¼ºÀÏ 15-12-07 13:47

º»¹®

¾È³çÇϼ¼¿ä. ¹ÝµµÃ¼Àåºñ±â¼ú±³À°¼¾ÅÍÀÔ´Ï´Ù.

¿Ã ÇÑ ÇØ¿¡µµ SETEC ±³À°°úÁ¤¿¡ ¸¹Àº °ü½ÉÀ» °¡Á®Áּż­ °¨»çµå¸®¸ç, 2016³â¿¡µµ ¸¹Àº °ü½É°ú Âü¿©¸¦ ºÎŹ µå¸³´Ï´Ù. 



1. ±³À° °úÁ¤ ¾È³»
 
 ¡Ø ÀϹݱâ¼ú°úÁ¤(4°³ °úÁ¤) : ¹ÝµµÃ¼±âÃÊ, ¹ÝµµÃ¼½Ç¹«I, ¹ÝµµÃ¼½Ç¹«II, ÆòÆǵð½ºÇ÷¹ÀÌ

 ¡Ø Àü¹®±â¼ú°úÁ¤(5°³ °úÁ¤) : ÇöóÁ±â¼ú, ÀåºñÁø°ø±â¼ú, ¹ÝµµÃ¼ÀåºñÅë½Å±â¼ú, Dry Etcher ±â¼ú, PECVD/ALD±â¼ú


2. ±³À° ½Åû ¾È³»

 ¡Ø ±³À° Á¢¼ö : ¿Â¶óÀÎ ¼±Âø¼ø Á¢¼ö(±³À° ½Ç½Ã 5ÁÖÀüºÎÅÍ)

 ¡Ø ±³À°´ë»óÀÚ : °í¿ëº¸Çè¿¡ °¡ÀԵǾî ÀÖÀ¸¸ç ¹ÝµµÃ¼°ü·Ã¾÷ü¿¡ ÀçÁ÷ÁßÀÎ ±Ù·ÎÀÚ


3. ȯ±Þ ¾È³»

 ¡Ø °í¿ë³ëµ¿ºÎ(»ç¾÷ÁÖ Á÷¾÷´É·Â°³¹ßÈÆ·Ã Áö¿ø»ç¾÷)¿¡ ÀÇÇØ ÀÎÁ¤ ¹ÞÀº ±³À°°úÁ¤À¸·Î ¾à 35%¿¡ ÇØ´çÇÏ´Â ¼ÒÁ¤ÀÇ Áö¿ø±ÝÀ» ȯ±Þ.
 
 ¡Ø ´ë»ó : ÇØ´ç »ç¾÷ÀåÀÇ °í¿ëº¸Çè¿¡ °¡ÀÔ µÈ ±Ù·ÎÀÚ·Î, 80% ÀÌ»ó Ãâ¼®ÇÏ¿© ¼ö·áÇÑ ÀÚ.
               
 ¡Ø Áö¿ø±Ý ½Åû : Çѱ¹»ê¾÷Àη°ø´Ü Áö¿ªº»ºÎ ¹× Áö»ç

÷ºÎÆÄÀÏ

´ñ±Û¸ñ·Ï

µî·ÏµÈ ´ñ±ÛÀÌ ¾ø½À´Ï´Ù.

Total 268°Ç 11 ÆäÀÌÁö
°øÁö»çÇ× ¸ñ·Ï
¹øÈ£ Á¦¸ñ ±Û¾´ÀÌ Á¶È¸ ³¯Â¥
118 SETEC 1949 05-11
117 SETEC 2358 05-04
116 SETEC 1640 05-04
115 SETEC 2234 04-29
114 SETEC 1688 04-21
113 SETEC 1616 04-12
112 SETEC 1930 04-12
111 SETEC 1747 04-08
110 SETEC 1764 04-08
109 SETEC 2137 03-25
108 SETEC 1906 03-21
107 SETEC 1728 03-14
106 SETEC 1805 03-08
105 SETEC 1816 03-08
104 SETEC 2138 02-19

°Ë»ö