¹ÝµµÃ¼±â¼úÀåºñ±³À°¼¾ÅÍ
S emiconductor   E quipment
T echnology   E ducation   C enter
¹ÝµµÃ¼Àåºñ±â¼ú±³À°¼¾ÅÍ
°øÁö»çÇ×
2017 Á¤±Ô±³À° ÀÏÁ¤ ¹× Á¢¼ö±â°£ ¾È³»

ÆäÀÌÁö Á¤º¸

profile_image
ÀÛ¼ºÀÚ SETEC
´ñ±Û 0°Ç Á¶È¸ 3,748ȸ ÀÛ¼ºÀÏ 16-12-01 17:26

º»¹®

¾È³çÇϼ¼¿ä. ¹ÝµµÃ¼Àåºñ±â¼ú±³À°¼¾ÅÍÀÔ´Ï´Ù.

¿Ã ÇÑ ÇØ¿¡µµ SETEC ±³À°°úÁ¤¿¡ ¸¹Àº °ü½ÉÀ» °¡Á®Áּż­ °¨»çµå¸®¸ç, 2017³â¿¡µµ ¸¹Àº °ü½É°ú Âü¿©¸¦ ºÎŹ µå¸³´Ï´Ù. 



1. ±³À° °úÁ¤ ¾È³»
 
 ¡Ø ÀϹݱâ¼ú°úÁ¤(4°³ °úÁ¤) : ¹ÝµµÃ¼±âÃÊ, ¹ÝµµÃ¼½Ç¹«I, ¹ÝµµÃ¼½Ç¹«II, ÆòÆÇµð½ºÇ÷¹ÀÌ

 ¡Ø Àü¹®±â¼ú°úÁ¤(5°³ °úÁ¤) : ÇöóÁ±â¼ú, ÀåºñÁø°ø±â¼ú, ¹ÝµµÃ¼ÀåºñÅë½Å±â¼ú, Dry Etcher ±â¼ú, PECVD/ALD±â¼ú


2. ±³À° ½Åû ¾È³»

 ¡Ø ±³À° Á¢¼ö : ±³À°½Ç½Ã 5ÁÖÀüºÎÅÍ 3ÁÖÀü±îÁö ¿Â¶óÀÎÀ¸·Î ¼±Âø¼ø Á¢¼ö.

 ¡Ø ±³À°´ë»óÀÚ : °í¿ëº¸Çè¿¡ °¡ÀԵǾî ÀÖ°í ¾÷ü¿¡ ÀçÁ÷ ÁßÀÎÀÚ.


3. ȯ±Þ ¾È³»

 ¡Ø [°í¿ë³ëµ¿ºÎ-»ç¾÷ÁÖ Á÷¾÷´É·Â°³¹ßÈÆ·Ã Áö¿ø»ç¾÷]¿¡ ÀÇÇØ ÀÎÁ¤ ¹ÞÀº ±³À°°úÁ¤À¸·Î ¾à 32%ÀÇ Áö¿ø±ÝÀ» ȯ±Þ.
 
 ¡Ø ȯ±Þ´ë»ó : °í¿ëº¸Çè¿¡ °¡ÀԵǾî ÀÖ´Â ¾÷ü ÀçÁ÷ÀÚ·Î, 80% ÀÌ»ó Ãâ¼®ÇÏ¿© ¼ö·áÇÑ ÀÚ.
               
 ¡Ø ȯ±Þ¹æ¹ý : ÈÆ·Ã±â°üÀÌ È¯±Þ½ÅûÇÏ¿© ¼ö·É ÈÄ »ç¾÷ÁÖ¿¡°Ô ȯ±Þ±Ý Áö±Þ.

÷ºÎÆÄÀÏ

´ñ±Û¸ñ·Ï

µî·ÏµÈ ´ñ±ÛÀÌ ¾ø½À´Ï´Ù.

Total 264°Ç 9 ÆäÀÌÁö
°øÁö»çÇ× ¸ñ·Ï
¹øÈ£ Á¦¸ñ ±Û¾´ÀÌ Á¶È¸ ³¯Â¥
144 SETEC 1882 03-09
143 SETEC 1614 02-22
142 SETEC 1621 02-09
141 SETEC 1457 01-26
140 SETEC 1426 01-26
139 SETEC 3586 12-09
138 SETEC 3041 12-02
¿­¶÷Áß SETEC 3749 12-01
136 SETEC 1151 11-01
135 SETEC 1332 10-28
134 SETEC 1237 10-14
133 SETEC 1149 09-30
132 SETEC 1282 09-09
131 SETEC 1278 09-02
130 SETEC 1304 08-19

°Ë»ö