¹ÝµµÃ¼±â¼úÀåºñ±³À°¼¾ÅÍ
S emiconductor   E quipment
T echnology   E ducation   C enter
¹ÝµµÃ¼Àåºñ±â¼ú±³À°¼¾ÅÍ
°øÁö»çÇ×
2017 Á¤±Ô±³À° ÀÏÁ¤ ¹× Á¢¼ö±â°£ ¾È³»

ÆäÀÌÁö Á¤º¸

profile_image
ÀÛ¼ºÀÚ SETEC
´ñ±Û 0°Ç Á¶È¸ 4,754ȸ ÀÛ¼ºÀÏ 16-12-01 17:26

º»¹®

¾È³çÇϼ¼¿ä. ¹ÝµµÃ¼Àåºñ±â¼ú±³À°¼¾ÅÍÀÔ´Ï´Ù.

¿Ã ÇÑ ÇØ¿¡µµ SETEC ±³À°°úÁ¤¿¡ ¸¹Àº °ü½ÉÀ» °¡Á®Áּż­ °¨»çµå¸®¸ç, 2017³â¿¡µµ ¸¹Àº °ü½É°ú Âü¿©¸¦ ºÎŹ µå¸³´Ï´Ù. 



1. ±³À° °úÁ¤ ¾È³»
 
 ¡Ø ÀϹݱâ¼ú°úÁ¤(4°³ °úÁ¤) : ¹ÝµµÃ¼±âÃÊ, ¹ÝµµÃ¼½Ç¹«I, ¹ÝµµÃ¼½Ç¹«II, ÆòÆǵð½ºÇ÷¹ÀÌ

 ¡Ø Àü¹®±â¼ú°úÁ¤(5°³ °úÁ¤) : ÇöóÁ±â¼ú, ÀåºñÁø°ø±â¼ú, ¹ÝµµÃ¼ÀåºñÅë½Å±â¼ú, Dry Etcher ±â¼ú, PECVD/ALD±â¼ú


2. ±³À° ½Åû ¾È³»

 ¡Ø ±³À° Á¢¼ö : ±³À°½Ç½Ã 5ÁÖÀüºÎÅÍ 3ÁÖÀü±îÁö ¿Â¶óÀÎÀ¸·Î ¼±Âø¼ø Á¢¼ö.

 ¡Ø ±³À°´ë»óÀÚ : °í¿ëº¸Çè¿¡ °¡ÀԵǾî ÀÖ°í ¾÷ü¿¡ ÀçÁ÷ ÁßÀÎÀÚ.


3. ȯ±Þ ¾È³»

 ¡Ø [°í¿ë³ëµ¿ºÎ-»ç¾÷ÁÖ Á÷¾÷´É·Â°³¹ßÈÆ·Ã Áö¿ø»ç¾÷]¿¡ ÀÇÇØ ÀÎÁ¤ ¹ÞÀº ±³À°°úÁ¤À¸·Î ¾à 32%ÀÇ Áö¿ø±ÝÀ» ȯ±Þ.
 
 ¡Ø ȯ±Þ´ë»ó : °í¿ëº¸Çè¿¡ °¡ÀԵǾî ÀÖ´Â ¾÷ü ÀçÁ÷ÀÚ·Î, 80% ÀÌ»ó Ãâ¼®ÇÏ¿© ¼ö·áÇÑ ÀÚ.
               
 ¡Ø ȯ±Þ¹æ¹ý : ÈƷñâ°üÀÌ È¯±Þ½ÅûÇÏ¿© ¼ö·É ÈÄ »ç¾÷ÁÖ¿¡°Ô ȯ±Þ±Ý Áö±Þ.

÷ºÎÆÄÀÏ

´ñ±Û¸ñ·Ï

µî·ÏµÈ ´ñ±ÛÀÌ ¾ø½À´Ï´Ù.

Total 278°Ç 10 ÆäÀÌÁö
°øÁö»çÇ× ¸ñ·Ï
¹øÈ£ Á¦¸ñ ±Û¾´ÀÌ Á¶È¸ ³¯Â¥
143 SETEC 3517 07-13
142 SETEC 3870 05-18
141 SETEC 3340 05-02
140 SETEC 3178 04-06
139 SETEC 2997 03-09
138 SETEC 2797 02-22
137 SETEC 2765 02-09
136 SETEC 2646 01-26
135 SETEC 2560 01-26
134 SETEC 4640 12-09
¿­¶÷Áß SETEC 4755 12-01
132 SETEC 2831 11-01
131 SETEC 2620 10-28
130 SETEC 2427 10-14
129 SETEC 2687 09-30

°Ë»ö