¹ÝµµÃ¼±â¼úÀåºñ±³À°¼¾ÅÍ
S emiconductor   E quipment
T echnology   E ducation   C enter
¹ÝµµÃ¼Àåºñ±â¼ú±³À°¼¾ÅÍ
°øÁö»çÇ×
2017 Á¤±Ô±³À° ÀÏÁ¤ ¹× Á¢¼ö±â°£ ¾È³»

ÆäÀÌÁö Á¤º¸

profile_image
ÀÛ¼ºÀÚ SETEC
´ñ±Û 0°Ç Á¶È¸ 4,232ȸ ÀÛ¼ºÀÏ 16-12-01 17:26

º»¹®

¾È³çÇϼ¼¿ä. ¹ÝµµÃ¼Àåºñ±â¼ú±³À°¼¾ÅÍÀÔ´Ï´Ù.

¿Ã ÇÑ ÇØ¿¡µµ SETEC ±³À°°úÁ¤¿¡ ¸¹Àº °ü½ÉÀ» °¡Á®Áּż­ °¨»çµå¸®¸ç, 2017³â¿¡µµ ¸¹Àº °ü½É°ú Âü¿©¸¦ ºÎŹ µå¸³´Ï´Ù. 



1. ±³À° °úÁ¤ ¾È³»
 
 ¡Ø ÀϹݱâ¼ú°úÁ¤(4°³ °úÁ¤) : ¹ÝµµÃ¼±âÃÊ, ¹ÝµµÃ¼½Ç¹«I, ¹ÝµµÃ¼½Ç¹«II, ÆòÆǵð½ºÇ÷¹ÀÌ

 ¡Ø Àü¹®±â¼ú°úÁ¤(5°³ °úÁ¤) : ÇöóÁ±â¼ú, ÀåºñÁø°ø±â¼ú, ¹ÝµµÃ¼ÀåºñÅë½Å±â¼ú, Dry Etcher ±â¼ú, PECVD/ALD±â¼ú


2. ±³À° ½Åû ¾È³»

 ¡Ø ±³À° Á¢¼ö : ±³À°½Ç½Ã 5ÁÖÀüºÎÅÍ 3ÁÖÀü±îÁö ¿Â¶óÀÎÀ¸·Î ¼±Âø¼ø Á¢¼ö.

 ¡Ø ±³À°´ë»óÀÚ : °í¿ëº¸Çè¿¡ °¡ÀԵǾî ÀÖ°í ¾÷ü¿¡ ÀçÁ÷ ÁßÀÎÀÚ.


3. ȯ±Þ ¾È³»

 ¡Ø [°í¿ë³ëµ¿ºÎ-»ç¾÷ÁÖ Á÷¾÷´É·Â°³¹ßÈÆ·Ã Áö¿ø»ç¾÷]¿¡ ÀÇÇØ ÀÎÁ¤ ¹ÞÀº ±³À°°úÁ¤À¸·Î ¾à 32%ÀÇ Áö¿ø±ÝÀ» ȯ±Þ.
 
 ¡Ø ȯ±Þ´ë»ó : °í¿ëº¸Çè¿¡ °¡ÀԵǾî ÀÖ´Â ¾÷ü ÀçÁ÷ÀÚ·Î, 80% ÀÌ»ó Ãâ¼®ÇÏ¿© ¼ö·áÇÑ ÀÚ.
               
 ¡Ø ȯ±Þ¹æ¹ý : ÈƷñâ°üÀÌ È¯±Þ½ÅûÇÏ¿© ¼ö·É ÈÄ »ç¾÷ÁÖ¿¡°Ô ȯ±Þ±Ý Áö±Þ.

÷ºÎÆÄÀÏ

´ñ±Û¸ñ·Ï

µî·ÏµÈ ´ñ±ÛÀÌ ¾ø½À´Ï´Ù.

Total 267°Ç 8 ÆäÀÌÁö
°øÁö»çÇ× ¸ñ·Ï
¹øÈ£ Á¦¸ñ ±Û¾´ÀÌ Á¶È¸ ³¯Â¥
162 SETEC 1526 05-10
161 SETEC 1482 04-30
160 SETEC 1563 04-05
159 SETEC 1499 03-22
158 SETEC 1496 03-09
157 SETEC 1381 03-05
156 SETEC 1590 02-22
155 SETEC 1670 02-08
154 SETEC 1917 01-25
153 SETEC 2179 01-11
152 SETEC 3720 12-04
151 SETEC 2238 11-03
150 SETEC 1990 11-01
149 SETEC 2333 10-26
148 SETEC 2394 10-12

°Ë»ö