¹ÝµµÃ¼±â¼úÀåºñ±³À°¼¾ÅÍ
S emiconductor   E quipment
T echnology   E ducation   C enter
¹ÝµµÃ¼Àåºñ±â¼ú±³À°¼¾ÅÍ
°øÁö»çÇ×
2012 SETEC Á¤±Ô±³À°ÀÏÁ¤ ¾È³»ÀÔ´Ï´Ù.

ÆäÀÌÁö Á¤º¸

profile_image
ÀÛ¼ºÀÚ SETEC
´ñ±Û 0°Ç Á¶È¸ 1,962ȸ ÀÛ¼ºÀÏ 11-12-07 14:01

º»¹®

2012³âµµ SETEC Á¤±Ô±³À°ÀÏÁ¤ÀÌ °èȹµÇ¾ú½À´Ï´Ù.

ÀϺΠ°úÁ¤ÀÇ ±³À°ºñ°¡ ÀλóµÇ¾úÀ¸´Ï, È®ÀÎÇϽñ⠹ٶø´Ï´Ù.


[Á¤±Ô±³À°°úÁ¤ ¼Ò°³]

ÀúÈñ SETEC¿¡¼­´Â ÀϹݰúÁ¤, ¿ä¼Ò±â¼ú°úÁ¤, ÀåºñÀü¹®±â¼ú°úÁ¤ µî ÃÑ 10°³ÀÇ Á¤±Ô±³À°°úÁ¤À»

°í¿ë³ëµ¿ºÎ »ç¾÷ÁÖ ´É·Â°³¹ßÁö¿ø±Ý ÈƷðúÁ¤À¸·Î ÀÎÁ¤¹Þ¾Æ ¿î¿µÇÏ°í ÀÖ½À´Ï´Ù.

>ÀϹݱâ¼ú°úÁ¤[5°³ °úÁ¤]
¹ÝµµÃ¼±âÃÊ/¹ÝµµÃ¼½Ç¹«I/¹ÝµµÃ¼½Ç¹«II/ÆòÆǵð½ºÇ÷¹ÀÌ/¼Ö¶ó¼¿

>¿ä¼Ò±â¼ú°úÁ¤[3°³ °úÁ¤]
ÇöóÁ±â¼ú/ÀåºñÁø°ø±â¼ú/¹ÝµµÃ¼ÀåºñÅë½Å±â¼ú

>ÀåºñÀü¹®±â¼ú°úÁ¤[2°³ °úÁ¤]
Dry Etcher 񃬣/PECVD.ALD񃬣


[±³À°´ë»óÀÚ]

°í¿ëº¸Çè¿¡ °¡ÀԵǾî ÀÖÀ¸¸ç ¹ÝµµÃ¼°ü·Ã¾÷ü¿¡ ÀçÁ÷ÁßÀ̽Š±Ù·ÎÀÚ¶ó¸é ´©±¸³ª °¡´ÉÇÕ´Ï´Ù.


[½Åû ¹× Á¢¼ö]

SETEC¿¡¼­´Â ¸Å¿ù Á¤±Ô±³À°°úÁ¤ ¾È³»¼­¸¦ À̸ÞÀÏ·Î ¹ß¼ÛÇϸç,

±³À°Á¢¼ö´Â ¿Â¶óÀÎÀ¸·Î ¹Þ°í ÀÖ½À´Ï´Ù.

(http://setec.kut.ac.kr Á¢¼Ó ÈÄ ¿Â¶óÀα³À°½Åû->±³À°½Åû->ÇØ´ç°úÁ¤¸í Ŭ¸¯)

¿Â¶óÀνÅû Á¢¼ö±â°£Àº Åë»óÀûÀ¸·Î ±³À°½Ç½Ã 6ÁÖÀüºÎÅÍ 3ÁÖÀü±îÁöÀÌ°í,

¼±Âø¼øÀ¸·Î ÀÌ·ç¾îÁö¸ç, ¾÷üº° ÃÖ´ë Á¢¼öÀοøÀº °úÁ¤ Á¤¿øÀÇ 15%ÀÔ´Ï´Ù.

Á¢¼ö±â°£ Á¾·á ÈÄ µî·ÏÇϽŠÀ̸ÞÀÏ·Î È®Á¤Å뺸¸¦ ÁøÇàÇÏ¿À´Ï, À̸ÞÀÏ ³»¿ëÀ»

¼÷ÁöÇÏ½Ã¾î ±³À°À§Å¹°è¾à¼­ Á¦Ãâ ¹× ±³À°ºñ¸¦ ¼Û±ÝÇÏ½Ã¸é µË´Ï´Ù.


[Áö¿ø±Ý ¾È³»]

±³À°À» À̼ö(Ãâ¼®·ü 80% ÀÌ»ó)ÇÑ ÈÄ °ü·Ã ¼­·ù¸¦

°üÇÒ Çѱ¹»ê¾÷Àη°ø´Ü Áö¿ªº»ºÎ ¹× Áö»ç¿¡ Á¦ÃâÇϸé Ã¥Á¤±âÁØ¿¡ µû¶ó

¼ÒÁ¤ÀÇ Áö¿ø±ÝÀ» Áö±Þ(±³À°ºñÀÇ ¾à 30%)¹ÞÀ» ¼ö ÀÖ½À´Ï´Ù.

*2012.1.1 ÀÌÈÄ~ »ç¾÷ÁÖ ´É·Â°³¹ßÁö¿ø±Ý ¾÷¹« ¼öÇà±â°ü º¯°æ*

[º¯°æÀü] °üÇÒ °í¿ë³ëµ¿Áö¹æ°ü¼­ - > [º¯°æÈÄ] °üÇÒ Çѱ¹»ê¾÷Àη°ø´Ü Áö¿ªº»ºÎ/Áö»ç



ÇÑ´Þ ³²Áþ ³²Àº 2011³â ¸¶¹«¸® ÀßÇϽðí,

2012³â¿¡µµ °Ç°­°ú Çà¿îÀÌ ÇÔ²²ÇÏ½Ã±æ ¹Ù¶ø´Ï´Ù.

÷ºÎÆÄÀÏ

´ñ±Û¸ñ·Ï

µî·ÏµÈ ´ñ±ÛÀÌ ¾ø½À´Ï´Ù.

Total 267°Ç 18 ÆäÀÌÁö

°Ë»ö