¹ÝµµÃ¼±â¼úÀåºñ±³À°¼¾ÅÍ
S emiconductor   E quipment
T echnology   E ducation   C enter
¹ÝµµÃ¼Àåºñ±â¼ú±³À°¼¾ÅÍ
°øÁö»çÇ×
*2015 ¿¬°£±³À°ÀÏÁ¤ ¹× Á¢¼öÀÏÀÚ ¾È³»*

ÆäÀÌÁö Á¤º¸

profile_image
ÀÛ¼ºÀÚ SETEC
´ñ±Û 0°Ç Á¶È¸ 3,161ȸ ÀÛ¼ºÀÏ 14-12-05 16:37

º»¹®

¾È³çÇϼ¼¿ä. ¹ÝµµÃ¼Àåºñ±â¼ú±³À°¼¾ÅÍ ÀÔ´Ï´Ù.

¾î´Àµ¡ 2014³âµµ ÇÑ ´ÞÀÌ Ã¤ ³²Áö ¾Ê¾Ò½À´Ï´Ù.

¿Ã ÇÑ ÇØ¿¡µµ ÀúÈñ SETEC¿¡ ¸¹Àº °ü½ÉÀ» °¡Á®Áּż­ °¨»çµå¸®¸ç, 2015³â¿¡µµ ¸¹Àº °ü½É°ú Âü¿©¸¦ ºÎŹ µå¸³´Ï´Ù.




[Á¤±Ô±³À°°úÁ¤ ¼Ò°³] (¿¬°£±³À°ÀÏÁ¤Ç¥-÷ºÎÆÄÀÏ ÂüÁ¶)


ÀúÈñ SETEC¿¡¼­´Â ÀϹݰúÁ¤, ¿ä¼Ò±â¼ú°úÁ¤, ÀåºñÀü¹®±â¼ú°úÁ¤ µî ÃÑ 9°³ÀÇ Á¤±Ô±³À°°úÁ¤À»

¿î¿µÇÏ°í ÀÖ½À´Ï´Ù.

> ÀϹݱâ¼ú°úÁ¤[4°³ °úÁ¤] : ¹ÝµµÃ¼±âÃÊ/¹ÝµµÃ¼½Ç¹«I/¹ÝµµÃ¼½Ç¹«II/ÆòÆǵð½ºÇ÷¹ÀÌ

> ¿ä¼Ò±â¼ú°úÁ¤[3°³ °úÁ¤] : ÇöóÁ±â¼ú/ÀåºñÁø°ø±â¼ú/¹ÝµµÃ¼ÀåºñÅë½Å±â¼ú

> ÀåºñÀü¹®±â¼ú°úÁ¤[2°³ °úÁ¤] : Dry Etcher ±â¼ú/PECVD.ALD±â¼ú


[±³À°´ë»óÀÚ]

> °í¿ëº¸Çè¿¡ °¡ÀԵǾî ÀÖÀ¸¸ç ¹ÝµµÃ¼°ü·Ã¾÷ü¿¡ ÀçÁ÷ÁßÀ̽Š±Ù·ÎÀÚ¶ó¸é ´©±¸³ª °¡´ÉÇÕ´Ï´Ù.


[Áö¿ø±Ý ¾È³»]

> ¸ðµç ±³À° °úÁ¤Àº [°í¿ë³ëµ¿ºÎ-»ç¾÷ÁÖ Á÷¾÷´É·Â°³¹ßÈÆ·Ã Áö¿ø»ç¾÷]¿¡ ÀÇÇØ ÀÎÁ¤ ¹Þ¾Æ ¿î¿µÇÏ°í ÀÖÀ¸¸ç,
 
  Áö¿ø±Ý Áö±Þ ±ÔÁ¤¿¡ µû¶ó ¼ö·á ÈÄ ¼ÒÁ¤ÀÇ ±³À°ºñ°¡ ȯ±ÞµË´Ï´Ù.

    * ȯ±Þ´ë»ó : ÇØ´ç »ç¾÷ÀåÀÇ °í¿ëº¸Çè¿¡ °¡ÀÔµÈ ÀÚ»ç±Ù·ÎÀÚ·Î, 80% ÀÌ»ó Ãâ¼®ÇÏ¿© ¼ö·áÇÑ ÀÚ.
 
    * ȯ±Þ½Åû : Çѱ¹»ê¾÷Àη°ø´Ü Áö¿ª º»ºÎ ¹× Áö»ç

    * ȯ±Þ¾× : ±³À°ºñÀÇ ¾à 45%·Î ¿¹»ó.

÷ºÎÆÄÀÏ

´ñ±Û¸ñ·Ï

µî·ÏµÈ ´ñ±ÛÀÌ ¾ø½À´Ï´Ù.

Total 273°Ç 14 ÆäÀÌÁö
°øÁö»çÇ× ¸ñ·Ï
¹øÈ£ Á¦¸ñ ±Û¾´ÀÌ Á¶È¸ ³¯Â¥
78 SETEC 2013 02-06
77 SETEC 2077 02-06
76 SETEC 2007 01-28
75 SETEC 2143 01-22
74 SETEC 2035 01-09
¿­¶÷Áß SETEC 3162 12-05
72 SETEC 2397 10-30
71 SETEC 2122 10-10
70 SETEC 2122 09-29
69 SETEC 1980 09-16
68 SETEC 1912 09-12
67 SETEC 2065 08-29
66 SETEC 3512 08-22
65 SETEC 2013 08-08
64 SETEC 2486 07-24

°Ë»ö